據媒體報導，因應人工智慧AI與5G高速通訊標準的需求增加，FUJIFILM宣布將開始販售包括光阻劑與顯影劑等先進半導體製造材料。

FUJIFILM同時將強化在日本與韓國的現有廠房設備，引進生產與品質檢測裝置，並在韓國新設置無塵室，預計於2025年10月開始啟用。

據悉，FUJIFILM將販售的材料可用於先進半導體製程中的極紫外光（EUV）曝光設備，可用在矽晶圓上10奈米以下之細微電路，未來目標應用於1奈米等級的下世代半導體。

此外，FUJIFILM也積極在日本投資半導體材料領域，本(2024)年9月公布將在包括靜岡縣的兩座半導體材料工廠投資200億日圓，計劃在2025至2026年間啟用。

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