Intel計劃於未來二年 投資70億美元 興建先進製造設備

資料來源及時間:CNYES 98年2月10日 Intel (INTC-US;英特爾)總裁兼執行長Paul Otellini於周二上午發布聲明指出,該公司計劃於未來二年,投資70億美元,於美國興建先進製造設施。 該新廠將使用32奈米製造技術,製造速度更快,體積更小晶片,該晶片消耗的能源亦較少。該公司並說,此一行動為史上新製造過程中,最高額投資。 英特爾說,此一投資將於奧勒岡州,亞利桑那州與新墨西哥州現有工廠進行,並於當地僱用約7000名高薪高技術員工。